基本情報
内容詳細
目次 : 液浸リソグラフィーとは/ 液浸露光用塗布現像装置/ レチクル技術/ 液浸リソグラフィの光学系/ 液浸露光装置の開発/ 液浸用レジストの開発/ 液浸用トップコート材料/ 液浸レジスト材料の評価/ 含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用/ 偏光照明技術/ 高NA投影レンズの開発/ 次世代液浸露光用高屈折率液体の開発/ 次世代液浸リソグラフィの光学系/ 32nmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開
【著者紹介】
東木達彦 : (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部リソグラフィ技術開発第三担当グループ長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
(「BOOK」データベースより)
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東木達彦
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部リソグラフィ技術開発第三担当グループ長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
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