クラスターイオンビーム基礎と応用次世代ナノ加工プロセス技術

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基本情報

ジャンル

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建築・理工

ISBN/カタログNo

：

ISBN 13 : 9784526057656
ISBN 10 : 4526057657

フォーマット

：

本

出版社

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日刊工業新聞社

発行年月

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2006年10月

発売国

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日本

追加情報

２１ｃｍ,２２３ｐ

内容詳細

本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。

目次 : １　イオンビーム技術の概要（イオンの発見/ イオンビーム技術の誕生　ほか）/ ２　ガスクラスタービームの発生（ガスクラスタービームの発生の原理/ ガスクラスターイオンビーム装置　ほか）/ ３　クラスターイオンビームと固体表面相互作用（クラスターイオンの個体表面衝突現象/ ガスクラスターイオンの照射効果の特長　ほか）/ ４　ナノ加工プロセス応用（半導体デバイス応用/ 磁性・誘電体デバイス応用　ほか）/ ５　産業用クラスターイオンビーム装置（ガスクラスターイオンビーム装置/ デカボランイオン注入装置）

【著者紹介】
山田公 : 京都大学名誉教授。兵庫県立大学高度産業科学技術研究所客員教授（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

（「BOOK」データベースより）