Product Details
ISBN/Catalogue Number
:
ISBN 13 : 9784882316664
ISBN 10 : 4882316668
ISBN 10 : 4882316668
Format
:
Books
Release Date
:
February/2007
Content Description
目次 : 第1編 EUV光源の開発(露光装置とEUVリソグラフィ/ EUVリソグラフィ用光源プラズマ/ プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状/ 究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマX線源 ほか)/ 第2編 EUVリソグラフィ用のマスクとレジスト技術(X線多層膜の物理/ EUV用反射型マスク基板/ EUV用マスク/ EUVレジストの特異性と反応機構 ほか)
【著者紹介】
豊田浩一 : 技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構顧問、(独)理化学研究所名誉研究員
岡崎信次 : 技術研究組合超先端電子技術開発機構EUVプロセス技術研究部部長(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
(「BOOK」データベースより)
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