中山弘

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触媒cvd(Cat-cvd)の新展開 ラジカルを用いる新プロセス技術

中山弘

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Product Details

Genre
：
Architecture&Engineering
ISBN/Catalogue Number
：
ISBN 13 : 9784781300399
ISBN 10 : 4781300391
Format
：
Books
Publisher
：
シーエムシー出版
Release Date
：
October/2008
Release Country
：
Japan

Content Description

目次 : 総論　Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生、期待とその課題（Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生/ Ｃａｔ‐ＣＶＤ膜の特徴　ほか）/ 第１章　基礎編（低温成膜の物理とＣａｔ‐ＣＶＤ―フィラメント表面での化学反応の評価/ 気相中のラジカル種の定量　ほか）/ 第２章　Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置（大型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置/ 簡易型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置　ほか）/ 第３章　応用編（ＳｉＮ―ＬＳＩトランジスターへの応用/ レジストエッチング―水素ラジカルによるレジスト除去　ほか）/ 第４章　材料各論（アモルファスおよび微結晶Ｓｉ/ エピタキシャルＳｉＣ　ほか）

【著者紹介】
中山弘 : 大阪市立大学工学研究科教授。（株）マテリアルデザインファクトリー（ＭＤＦ）代表取締役（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）

（「BOOK」データベースより）

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