はじめての半導体リソグラフィ技術

目次 : １章　半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術/ ２章　光リソグラフィ技術/ ３章　電子線リソグラフィ技術/ ４章　Ｘ線・ＥＵＶリソグラフィ技術/ ５章　その他のリソグラフィ技術/ ６章　マスク技術/ ７章　レジスト技術/ ８章　計測評価技術/ ９章　リソグラフィ技術の課題と今後の展望

【著者紹介】
岡崎信次 : １９７０年東京工業大学理工学部電子工学科卒業。１９７０年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９８０年より１年間米国Ｒｅｎｓｓｅｌａｔｅｒ　Ｐｏｌｙｔｅｃｈｎｉｃ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅに留学。１９９４年東京工業大学より工学博士授与。１９９５年日立製作所半導体事業部、１９９８年同社デバイス開発センターに異動、同年中央研究所に戻りＡＳＥＴに出向、ＥＵＶ研究室室長としてＥＵＶリソグラフィ技術の研究に従事。２００２年ＡＳＥＴ、ＥＵＶプロセス技術研究部部長に就任し、２００６年日立中研に戻る

鈴木章義 : １９７３年東京大学物理工学専門課程修士修了。１９７３年キヤノン（株）に入社。現在、ＮＧＬ推進統括部、キヤノンフェロー、ＳＰＩＥフェロー。１９８４年光学論文賞、１９８５年機械振興協会賞、２００５年新機械振興会賞。１９９１年東京大学より工学博士授与

上野巧 : １９７９年東京工業大学大学院理工学研究科博士課程修了（理博）。１９７９年（株）日立製作所中央研究所に入所。１９９５年同社日立研究所、２００１年日立化成工業（株）総合研究所、２００２年日立化成デュポンマイクロシステムズ（株）、２００５年より日立化成工業（株）筑波総合研究所主管研究員（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）