基本情報
内容詳細
多くの工業製品には半導体・電子材料を用いたナノ構造デバイスが使われている。本書では、研究開発、不具合診断、製造装置の条件出しなどに用いられる種々の分析法について詳しく解説した。各分析法の原理・特徴を記述し、応用・分析例も示した実用的かつ充実した内容である。また今後の利用が期待される分析・計測法についても解説している。
目次 : 半導体・電子材料の分析/ 誘導結合プラズマ質量分析(ICP‐MS)/ 誘導結合プラズマ発光分光分析(ICP‐AES)/ 二次イオン質量分析(SIMS)/ 蛍光X線分析(XRF)/ 三次元アトムプローブ(APT)/ 走査電子顕微鏡(SEM)/ 測長走査電子顕微鏡(測長SEM)/ 透過電子顕微鏡(TEM)/ 走査プローブ顕微鏡(SPM)/ ラザフォード後方散乱分析(RBS)と弾性反跳検出分析(ERDA)/ X線反射率/ 陽電子消滅/ オージェ電子分光法(AES)とX線電子分光法(XPS)
(「BOOK」データベースより)
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