基本情報
内容詳細
下町マスク工場の再建を請け負った留目先生が活躍する本格的弁理士小説。下町ロケットを超えた!?
【著者紹介】
黒川正弘 : 工学博士。1952年生まれ、奈良県出身。1980年大阪市立大学大学院工学部後期博士課程修了。同年三菱ガス化学株式会社に入社。研究推進部で特許100件以上を出願する。2005年、知的財産グループに異動。特許戦略等に関する多くの講演会を国内国外で実施中(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
(「BOOK」データベースより)
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みいやん さん
読了日:2016/12/21
おかつ さん
読了日:2019/05/04
たけひろ さん
読了日:2018/10/10
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人物・団体紹介
黒川正弘
工学博士。1952年生まれ。奈良県出身。1980年大阪市立大学大学院工学部後期博士課程修了。同年三菱瓦斯化学株式会社入社。特許100件以上を出願する。2017年高岡IP特許事務所入所。特許戦略等に関する講演会を国内外で実施し、2018年からはフリーで活動中。主な著作に『特許と土偶とGDP―アフター5
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