前田和夫

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プロフィール

1959年横浜国立大学工学部化学工学科卒業。1959〜1978年富士通(株)勤務。1977年東京大学より工学博士号授与。1978〜1982年パイオニア(株)勤務。1979年米国SEMI(半導体装置材料協会)よりSEMMY賞授与。1982〜1988年アプライドマテリアルジャパン(株)勤務。1988年(株)半導体プロセス研究所設立。2008年9月逝去(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていた...
はじめての半導体プロセス 現場の即戦力』より

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